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布圖設計專有權的取得方式
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《華盛頓條約》對集成電路布圖設計專有權取得方式的規定是非強制性的，由各國自行選擇。TRIPS協議第38條的規定對此予以認可。《華盛頓條約》第7條列舉了兩種權利取得方式：

1．正常商業利用

即符合條件布圖設計被設計完畢之后，在任何地方已經被單獨地或者作為某集成電路的組成部分被投入正常的商業利用。其中，“正常的商業利用”要件排除了某些基于保密協議而將之作為商業秘密所進行的商業利用，彰顯了促進集成電路產業發展的目的。通過“正常商業利用”取得布圖設計專有權的缺陷是，在實踐中很難判斷權利的取得時間，認定布圖設計的獨創性上也存在著很大的困難。

2．登記制

即向主管機關登記，才獲得專有權。登記時，登記機關可以要求登記人提供該布圖設計(拓撲圖)的復制件或者圖樣。如果集成電路已經投入商業利用，登記機關可以要求提供該集成電路的樣品并附能夠準確說明該集成電路計劃執行的電子功能材料。

TRIPS協議與《華盛頓公約》給予各國在選擇權利取得方式上的絕對自由的主要原因，在于尊重發達國家在此問題的既有規定。①美日兩國的立法都同時以商業利用和登記作為取得專有權的條件．如果在首次商業利用后的兩年內未辦理登記手續，法律對其專有權的保護即行終止，即未履行登記手續的集成電路布圖設計只享有兩年的法律保護。


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