光刻機屬于尖端技術(shù)裝備，能造的國家屈指可數(shù)，少之又少，除了大家所熟知的荷蘭，還有日本、美國、德國，當然，中國也是能造的！

提到光刻機，許多人都以為只有荷蘭的ASML能造出來，其實不然， 能造光刻機的國家還有很多，只不過能造出最先進的光刻機的，目前確實只有荷蘭的ASML。所以，當大家都把目光聚焦于最先進的光刻機時，才會出現(xiàn)只有荷蘭ASML能造光刻機的這種錯覺。

目前世界上能制造光刻機的國家和企業(yè)主要有：荷蘭的ASML、日本的尼康和佳能、德國的歐泰克和SUSS、美國的ABM, Inc，以及中國的上海微電子裝備有限公司（SMEE）、中子科技集團公司第四十五研究所國電、合肥芯碩半導(dǎo)體有限公司、先騰光電科技、無錫影速半導(dǎo)體科技等眾多企業(yè)。

其中，荷蘭的ASML采用13.5nm的光源源碼，可以實現(xiàn)7nm，甚至5nm的制程，而且還有進一步提升的空間。而中國最先進的技術(shù)是上海微電子裝備有限公司量產(chǎn)的是90nm制程光刻機，與世界最先進的技術(shù)還有不小的差距！

按照光刻機達到的生產(chǎn)工藝精度，可以將光刻機制造企業(yè)分為三個梯隊：

而目前全球的光刻機市場幾乎被荷蘭的ASML、日本尼康和佳能、中國上海微電子設(shè)備集團四家公司所壟斷，按照技術(shù)性能源碼，荷蘭ASML壟斷了高端光刻機市場份額，日本尼康和佳能處于中端但同時競爭中低端市場，而上海微電子只有低端光刻機市場。